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一、概念：
集成电路是一种综合性技术成果，它包括布图设计和工艺技术。
集成电路：指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或全部互连线路集成在基片之中或基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或最终产品。
集成电路布图设计：是附着于各种载体上的电子元件和连接这些元件的连线的有关布局设计。（我国的保护：必须具有原创性，才能受到法律保护）。
二、立法保护（专利法、著作权法不能给集成电路不图设计有效的保护）：
（一）集成电路布图设计实质上是一种图形设计，但并非是工业品外观设计，不适用专利法保护，理由：
1、布图设计并不取决于集成电路的外观，而决定于集成电路中具有电子功能的每一元件的实际位置。
2、布图设计景观需要专家的大量劳动，但设计方案不会有多大的改变，其设计的主旨在于提高集成度，节约材料、降低能耗，因此不具备创造性的专门要求。
3、集成电路技术发展迅速，产品更新换代很快，其布图设计不适宜采用耗费时间较多的专利审批程序。
（二）集成电路布图设计是一种三维配置形态的图形设计，但不属于著作权法意义上的图形作品或造型艺术作品，理由：
1、布图设计由电子元件及其连线所组成，执行某种电子功能，不表现任何思想。
2、布图设计是多个元件合理分布并相互关联的三维配置，是一种电子产品，不以其“艺术性”作为法律保护条件
3、著作权保护期长，如果将布图设计作为一般作品保护，不利于集成电路产业的发展。
（三）各国大抵采取单行立法，确认布图设计专有权，即给予其他知识产权的保护。
美国最先进行立法保护。世界知识产权组织在华盛顿召开的专门会议上通过《关于集成电路的知识产权条约》。我国《集成电路布图设计保护条例》。
三、集成电路布图设计专有权：
是一项独立的知识产权，是权利持有人对其布图设计进行复制和商业利用的专有权利。
（一）专有权的取得：
1、主体资格：中国自然人、法人或其他组织创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权；外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权；外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。
2、客体条件：合格的客体必须是具有独创性的布图设计。
3、方式与程序：
（1）方式：自然取得、登记取得、使用与登记取得。（我国实行登记制度）
（2）程序（我国）：申请、初审、登记并公告、对驳回申请的复审、登记的撤销。
（二）专有权的内容及其行使：
1、内容：（布图设计权的权能）不包括精神权利
布图设计权：指权利的持有人对于权利的客体所能够行使的权利。
（1）复制权：即专有权人有权通过光学的、电子学的方式或其他方式来复制其受保护的布图设计。
（2）商业利用权：即专有权人享有将受保护的布图设计以及含有该布图设计的集成电路或含有此种集成电路的产品进行商业利用的权利。
2、布图设计权的行使：三种形式
（1）自己对布图设计进行复制或商业利用。
（2）将布图设计权转让给他人所有。
（3）许可他人对布图设计进行复制和商业利用。
（三）专有权的保护：
1、保护期限：
布图设计保护期为10年，自布图设计登记申请之日或在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准，但无论是否登记或投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受《集成电路布图设计保护条例》保护。
2、侵权责任及制止措施：
（1）民事责任：侵权行为人须立即停止侵权行为，并承担赔偿责任。赔偿数额为侵权人所获得的利益或被侵权人所受到的损失，包括被侵权人为制止侵权行为所支付合理开支。
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